Plasmareaktor mit zum Plasma Abgestimmter, Oberer Rf Elektrode mit Überschlagsunterdrückung
EP1459351
Art A2
22. September 2004
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1459351
- Aktenzeichen
- EP02773574
- Anmeldetag
- 25. September 2002
- Veröffentlichung
- 22. September 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Fachgebiete
Vertreten von
Zimmermann, Gerd Heinrich
München, Deutschland
751
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7
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