Methode für die Planarisierung von Gruppe-Viii-Metallhaltigen Oberflächen mit Oxidierenden Gasen

EP1459370 Art A2 22. September 2004

Anmelder: Micron Technology, Inc., MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1459370
Aktenzeichen: EP02787053
Anmeldetag: 17. Dezember 2002
Veröffentlichung: 22. September 2004
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/321

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Micron Technology, Inc.
MICRON TECHNOLOGY, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

3.194 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von