Planarisierungsverfahren von Gruppe Viii-Metallhaltigen Oberflächen mit Komplexbildner

EP1459371 Art A1 22. September 2004

Anmelder: Micron Technology, Inc., MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1459371
Aktenzeichen: EP02792422
Anmeldetag: 17. Dezember 2002
Veröffentlichung: 22. September 2004
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/321C09G1/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Micron Technology, Inc.
MICRON TECHNOLOGY, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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