Verfahren zur Bildung einer Flachen Grabenisolationsstruktur mit Verbesserter Rundung der Grabenecken

EP1459374 Art B1 17. März 2010

Anmelder: Spansion LLC, Spansion, Inc, ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1459374
Aktenzeichen
EP02806155
Anmeldetag
11. Dezember 2002
Veröffentlichung
17. März 2010
Erteilung
17. März 2010
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/762H01L21/311H01L21/316
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Spansion LLC
Spansion, Inc
ADVANCED MICRO DEVICES INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Advanced Micro Devices

US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.

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