EUV optische Vorrichtung mit verstärkter mechanischer Stabilität und lithographische Maske mit dieser Vorrichtung
EP1464993
Art B1
5. Oktober 2005
Anmelder: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1464993
- Aktenzeichen
- EP04354013
- Anmeldetag
- 16. März 2004
- Veröffentlichung
- 5. Oktober 2005
- Erteilung
- 5. Oktober 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B1/10H01L21/033G02B5/08G21K1/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
CEA (Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives)
Französisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Paris (Verwaltung) und Standorten wie Grenoble und Saclay. Forscht in Kernenergie, erneuerbaren Energien, Mikroelektronik, Werkstoffwissenschaften, Verteidigungstechnik und Informationstechnologien.
5.929 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hecké, Gérard
Grenoble, Frankreich
573
Patente gesamt
30
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte