Positiv arbeitende Resistzusammensetzung

EP1465010 Art B1 21. Oktober 2009

Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fuji Photo Film Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1465010
Aktenzeichen: EP04007650
Anmeldetag: 30. März 2004
Veröffentlichung: 21. Oktober 2009
Erteilung: 21. Oktober 2009
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
Fuji Photo Film Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von