Verfahren zur Maskierung einer Ausnehmung einer Struktur mit einem Grossen Aspektverhältnis
EP1466351
Art A1
13. Oktober 2004
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1466351
- Aktenzeichen
- EP03701495
- Anmeldetag
- 8. Januar 2003
- Veröffentlichung
- 13. Oktober 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/033
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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Beck, Josef
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