Aufschleuder-Antireflexbeschichtungen für die Photolithographie
EP1472574
Art A1
3. November 2004
Anmelder: Honeywell International Inc., Honeywell International, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1472574
- Aktenzeichen
- EP01996057
- Anmeldetag
- 15. November 2001
- Veröffentlichung
- 3. November 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03C1/492C08G77/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Honeywell International Inc.
Honeywell International, Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Honeywell
US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.
13.051 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Clarke, Lionel Paul
London, Großbritannien
643
Patente gesamt
31
Fachgebiete
21
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Hucker, Charlotte Jane
NoneLondon