Verfahren zur Herstellung einer zur Mikrobearbeitung geeigneten polykristallinen Silizium-Germanium-Schicht
EP1473383
Art B1
15. August 2012
Anmelder: IMEC, INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM VZW 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1473383
- Aktenzeichen
- EP04447106
- Anmeldetag
- 29. April 2004
- Veröffentlichung
- 15. August 2012
- Erteilung
- 15. August 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/22C23C16/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC
INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM VZW - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
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