Lithographischer Apparat und Verfahren zur Optimierung einer Beleuchtungsquelle unter Verwendung photolithographischer Simulationen
EP1473596
Art A3
6. September 2006
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1473596
- Aktenzeichen
- EP04250743
- Anmeldetag
- 11. Februar 2004
- Veröffentlichung
- 6. September 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F1/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Peters, John Antoine
Veldhoven, Niederlande
167
Patente gesamt
11
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon