Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung einer Maske Und/oder einer Membranabdeckung
EP1473598
Art A3
9. März 2005
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1473598
- Aktenzeichen
- EP04252493
- Anmeldetag
- 29. April 2004
- Veröffentlichung
- 9. März 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon