Dünnfilme, Strukturen mit Dünnfilmen und Verfahren zur Ausbildung von Dünnfilmen
EP1474829
Art A1
10. November 2004
Anmelder: Honeywell International Inc., Honeywell International, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1474829
- Aktenzeichen
- EP03732079
- Anmeldetag
- 24. Januar 2003
- Veröffentlichung
- 10. November 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L23/48H01L21/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Honeywell International Inc.
Honeywell International, Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Honeywell
US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.
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Vertreten von
Hucker, Charlotte Jane
London, Großbritannien
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