Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1475670
Art B1
29. Oktober 2008
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1475670
- Aktenzeichen
- EP04076311
- Anmeldetag
- 29. April 2004
- Veröffentlichung
- 29. Oktober 2008
- Erteilung
- 29. Oktober 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Winckels, Johannes Hubertus F
NoneDen Haag