Verfahren zur Herstellung von Oxidschichten mit Unterschiedlicher Dicke auf einer Substratoberfläche
EP1476899
Art B1
7. März 2007
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC., ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1476899
- Aktenzeichen
- EP02787067
- Anmeldetag
- 20. Dezember 2002
- Veröffentlichung
- 7. März 2007
- Erteilung
- 7. März 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311H01L21/318H01L21/8238H01L21/8234H01L21/314
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
ADVANCED MICRO DEVICES INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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