Zur Herstellung eines mikroelektronischen Elements geeignete Struktur einer lithographischen Marke
EP1477860
Art A1
17. November 2004
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1477860
- Aktenzeichen
- EP03076422
- Anmeldetag
- 12. Mai 2003
- Veröffentlichung
- 17. November 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Jorritsma, Ruurd
Den Haag, Niederlande
630
Patente gesamt
33
Fachgebiete
26
Anmelder-Länder
Schwerpunkte