Verfahren zur Eichung eines lithographischen Geräts, Ausrichtverfahren, Computerprogramm, lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung

EP1477862 Art A3 5. Juli 2006

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1477862
Aktenzeichen
EP04252825
Anmeldetag
14. Mai 2004
Veröffentlichung
5. Juli 2006
Rechtsraum
EP
IPC
G03F9/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von
Weenink, Willem Veldhoven, Niederlande
78
Patente gesamt
4
Fachgebiete
2
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