Methode zum Beschichten eines Substrats für die EUV-Lithographie, sowie Substrat mit Fotoresistschicht
EP1480078
Art A1
24. November 2004
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1480078
- Aktenzeichen
- EP04076494
- Anmeldetag
- 19. Mai 2004
- Veröffentlichung
- 24. November 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G03F7/11G03F7/09
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
van Westenbrugge, Andries
NoneDen Haag