Selbstjustiertes Verfahren zur Herstellung eines Doppel-Gate Mosfet
EP1481425
Art B1
23. Juli 2008
Anmelder: Forschungszentrum Jülich GmbH, FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1481425
- Aktenzeichen
- EP03709631
- Anmeldetag
- 25. Februar 2003
- Veröffentlichung
- 23. Juli 2008
- Erteilung
- 23. Juli 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/786H01L21/336
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Forschungszentrum Jülich GmbH
FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Forschungszentrum Jülich
Deutsche Großforschungseinrichtung der Helmholtz-Gemeinschaft mit Sitz in Jülich, gegründet 1956. Forschungsschwerpunkte sind Energie, Information und Gehirnforschung.
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