Verfahren zur Erzeugung von ultradünnen homogenen Metallschichten

EP1482073 Art A2 1. Dezember 2004

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1482073
Aktenzeichen: EP04011671
Anmeldetag: 17. Mai 2004
Veröffentlichung: 1. Dezember 2004
Rechtsraum: EP
IPC: C23C18/31C23C28/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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