Methode zur Erzeugung von Linien oder Löchern mit variablen Intervallen unter Einsatz von Pixeln in fixer Dimension für lithographische Systeme vom Direktschreibtyp
EP1482365
Art A3
22. März 2006
Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1482365
- Aktenzeichen
- EP04011288
- Anmeldetag
- 12. Mai 2004
- Veröffentlichung
- 22. März 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F1/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Holding N.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
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Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München