System und Methode zur Herstellung von Graustufen durch die Verwendung von räumlichen Lichtmodulatoren in einem maskenlosen Lithographiesystem
EP1482367
Art A2
1. Dezember 2004
Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1482367
- Aktenzeichen
- EP04012133
- Anmeldetag
- 21. Mai 2004
- Veröffentlichung
- 1. Dezember 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Holding N.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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