Halbleiterbauelement mit einer Drahtanschlussfläche und Herstellungsverfahren dafür

EP1483789 Art B1 16. November 2016

Anmelder: NXP USA, Inc., Freescale Semiconductor Inc. (A Delaware Corp) 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1483789
Aktenzeichen
EP03714137
Anmeldetag
12. März 2003
Veröffentlichung
16. November 2016
Erteilung
16. November 2016
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/60H01L23/485
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
NXP USA, Inc.
Freescale Semiconductor Inc. (A Delaware Corp)
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 NXP USA

US-amerikanische Gesellschaft des Halbleiterkonzerns NXP, die Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation und Industrieelektronik entwickelt.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen