Zerschneideverfahren, Verfahren zur Untersuchung eines Integrierten Schaltungselements, Substrathalteeinrichtung und Druckhaftfilm
EP1484791
Art A1
8. Dezember 2004
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1484791
- Aktenzeichen
- EP03743517
- Anmeldetag
- 27. Februar 2003
- Veröffentlichung
- 8. Dezember 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/301H01L21/68H01L21/78
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Fachgebiete
Kanzlei
Gleiss Große Schrell und Partner mbB
Stuttgart, Deutschland
Stuttgarter Kanzlei, die Patentanwälte und Rechtsanwälte unter einem Dach vereint, registriert beim Deutschen Patent- und Markenamt sowie beim EUIPO in Alicante. Als Vertreter vor dem Einheitlichen Patentgericht zugelassen, mit Auslandsnetzwerken unter dem Motto „Your innovation is in good hands“.
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