Stützvorrichtung, lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels, das eine Stützvorrichtung und ein Positionskontrollsystem zur Verwendung in einer Stützvorrichtung verwendet
EP1486825
Art A1
15. Dezember 2004
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1486825
- Aktenzeichen
- EP03076923
- Anmeldetag
- 13. Juni 2003
- Veröffentlichung
- 15. Dezember 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Prins, Adrianus Willem
Den Haag, Niederlande
1.547
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-
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir
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