Verfahren zur Herstellung eines SOI-Substrats
EP1487010
Art B1
29. August 2007
Anmelder: Siltronic AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1487010
- Aktenzeichen
- EP04013119
- Anmeldetag
- 3. Juni 2004
- Veröffentlichung
- 29. August 2007
- Erteilung
- 29. August 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/76H01L21/265H01L21/762
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Siltronic AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
281 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Rimböck, Karl-Heinz
München, Deutschland
33
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Rimböck, Karl-Heinz, Dr
NoneMünchen