Vorrichtung und Verfahren zur Maskenlosen Afm Mikrolithographie

EP1488193 Art B1 12. Juni 2013

Anmelder: Vistec Electron Beam GmbH, Rangelow, Ivo, Universität Kassel, Leica Microsystems Lithography GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1488193
Aktenzeichen
EP03712019
Anmeldetag
14. März 2003
Veröffentlichung
12. Juni 2013
Erteilung
12. Juni 2013
Rechtsraum
EP
IPC
G01Q80/00B82Y40/00B82Y35/00H01J37/317G01Q70/06B82Y10/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Vistec Electron Beam GmbH
Rangelow, Ivo
Universität Kassel
Leica Microsystems Lithography GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Vertreten von
Reichert, Werner Franz Wetzlar, Deutschland
423
Patente gesamt
31
Fachgebiete
18
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Optik & Fototechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Verpackungs- & Fördertechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Software & Datenverarbeitung Medizintechnik & Gesundheit
Zum Anwaltsprofil
Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen