Photomaske und Verfahren zur Photolithographischen Mustererzeugung auf einem Substrat unter Benützung von Hilfsstrukturen mit Phasenänderung
EP1488284
Art B1
20. Dezember 2006
Anmelder: Intel Corporation, INTEL CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1488284
- Aktenzeichen
- EP03711440
- Anmeldetag
- 6. März 2003
- Veröffentlichung
- 20. Dezember 2006
- Erteilung
- 20. Dezember 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G03F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Intel Corporation
INTEL CORPORATION - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
26.631 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
23.509
Patente gesamt
34
Fachgebiete
36
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Kanzlei
Boehmert & Boehmert
München, Deutschland
Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.
39.124
Patente gesamt
25
Patentanwälte
2
Standorte
Weitere Vertreter
-
Goddar, Heinz J., Dr
NoneMünchen