Verfahren zur Herstellung einer Referenzschicht und mit einer Derartigen Referenzschicht Versehene Mram-Speicherzelle

EP1488426 Art B1 26. Oktober 2005

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1488426
Aktenzeichen
EP03724832
Anmeldetag
11. März 2003
Veröffentlichung
26. Oktober 2005
Erteilung
26. Oktober 2005
Rechtsraum
EP
IPC
G11C11/16H01F41/30H01F41/32H01F10/32
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Infineon Technologies AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

4.937 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen