Verfahren zur Herstellung einer Referenzschicht und mit einer Derartigen Referenzschicht Versehene Mram-Speicherzelle
EP1488426
Art B1
26. Oktober 2005
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1488426
- Aktenzeichen
- EP03724832
- Anmeldetag
- 11. März 2003
- Veröffentlichung
- 26. Oktober 2005
- Erteilung
- 26. Oktober 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G11C11/16H01F41/30H01F41/32H01F10/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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