Ionenimplantation von einem Siliziumoxidschicht um die Ausdiffusion von Dotierstoffen aus den Source- und Drain-Ausdehnungen zu Hemmen
EP1488453
Art A1
22. Dezember 2004
Anmelder: Globalfoundries Inc., GlobalFoundries, Inc., ADVANCED MICRO DEVICES, INC., ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇰🇾
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1488453
- Aktenzeichen
- EP03716494
- Anmeldetag
- 13. März 2003
- Veröffentlichung
- 22. Dezember 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/336H01L21/265
Abstract
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Anmelder
- Firmen
- Globalfoundries Inc.
GlobalFoundries, Inc.
ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
ADVANCED MICRO DEVICES INC. - Land
- 🇰🇾 KY
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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Vertreten von
Picker, Madeline Margaret
London, Großbritannien
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