Verfahren zur Verkleinerung des Musters in einer Photoresistschicht
EP1489463
Art A3
13. September 2006
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1489463
- Aktenzeichen
- EP04022862
- Anmeldetag
- 21. Juni 2002
- Veröffentlichung
- 13. September 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Hayes, Adrian Chetwynd
London, Großbritannien
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