Substratverarbeitungseinrichtung und Substratverarbeitungsverfahren, Schnelle Drehventile, Reinigungsverfahren
EP1489651
Art A1
22. Dezember 2004
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1489651
- Aktenzeichen
- EP03712940
- Anmeldetag
- 25. März 2003
- Veröffentlichung
- 22. Dezember 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/31F16K5/04F16K51/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Kanzlei
Urquhart-Dykes & Lord LLP
Britische Traditionskanzlei, deren Wurzeln in zwei Londoner und Leedser Patentagenturen der 1870er-Jahre liegen, 1946 zusammengeführt. Seit 2021 Teil der schottischen Kanzlei Murgitroyd, deckt Patente, Marken und Designs bis zur Litigation ab.
4.055
Patente gesamt
7
Patentanwälte
4
Standorte
Weitere Vertreter
-
Rees, Alexander Ellison
NoneLondon