Synthetisches Quarzglaselement und Herstellungsverfahren dafür
EP1491513
Art A1
29. Dezember 2004
Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1491513
- Aktenzeichen
- EP03712920
- Anmeldetag
- 25. März 2003
- Veröffentlichung
- 29. Dezember 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C03C3/06C03B20/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NIKON CORPORATION
Nikon Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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Wiebusch, Manfred
Bielefeld, Deutschland
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