Optisches Projektionssystem für maskenlose Lithographie
EP1491958
Art B1
29. Oktober 2008
Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1491958
- Aktenzeichen
- EP04014594
- Anmeldetag
- 22. Juni 2004
- Veröffentlichung
- 29. Oktober 2008
- Erteilung
- 29. Oktober 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Holding N.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München