Prozess zur Herstellung Luftlückenhaltiger Halbleitender Bauelemente und Resultierendes Halbleiterbauelement
EP1493183
Art B1
5. Dezember 2012
Anmelder: Dow Global Technologies LLC, DOW GLOBAL TECHNOLOGIES INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1493183
- Aktenzeichen
- EP03728320
- Anmeldetag
- 1. April 2003
- Veröffentlichung
- 5. Dezember 2012
- Erteilung
- 5. Dezember 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/768H01L23/482
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Dow Global Technologies LLC
DOW GLOBAL TECHNOLOGIES INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Dow Global Technologies
US-amerikanisches Tochterunternehmen des Chemiekonzerns Dow, das geistiges Eigentum verwaltet und Patente aus Forschung zu Kunststoffen, Chemikalien und Materialwissenschaften der Dow-Gruppe hält.
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Fachgebiete
Vertreten von
Hull, John Philip
London, Großbritannien
170
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23
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Burford, Anthony Frederick
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