Strahlungsempfindliche Zusammensetzung mit veränderlichem Brechungsindex, Verfahren zur Herstellung eines Musters und optisches Material

EP1494072 Art A3 27. Dezember 2006

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1494072
Aktenzeichen
EP04014848
Anmeldetag
24. Juni 2004
Veröffentlichung
27. Dezember 2006
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00G03F7/004G03F7/075G03F7/038G02B1/08G02B6/122G02B6/124G02B1/04
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen