Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1494074
Art A1
5. Januar 2005
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1494074
- Aktenzeichen
- EP03254139
- Anmeldetag
- 30. Juni 2003
- Veröffentlichung
- 5. Januar 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Corcoran, Gregory Martin Mason
Veldhoven, Niederlande
102
Patente gesamt
7
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Raukema, Age
NoneVeldhoven
-
Doolaar, Frans
NoneEnschede
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon