Methode und System zur vorwärts gerichteten Overlay-Korrektur musterinduzierter Bildverzerrung- und verschiebung, und lithographisches Projektionsgerät zur Benutzung derselben
EP1496397
Art A1
12. Januar 2005
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1496397
- Aktenzeichen
- EP03077204
- Anmeldetag
- 11. Juli 2003
- Veröffentlichung
- 12. Januar 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
van Westenbrugge, Andries
Den Haag, Niederlande
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