Verfahren zur Herstellung einer Silizium-Elektrode für Plasma-Reaktionskammer

EP1497849 Art B1 23. Juni 2010

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1497849
Aktenzeichen
EP03716753
Anmeldetag
21. März 2003
Veröffentlichung
23. Juni 2010
Erteilung
23. Juni 2010
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/00C23C16/44H01J37/32H01L21/30H01L21/316H01L21/306H01J1/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik
Vertreten von
Diehl, Hermann O. Th München, Deutschland
81
Patente gesamt
23
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Medizintechnik & Gesundheit Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Bergbau & Bohrtechnik Nachrichtentechnik & Telekommunikation
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