Substrathalter und lithographischer Projektionsapparat
EP1498777
Art A1
19. Januar 2005
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1498777
- Aktenzeichen
- EP03077222
- Anmeldetag
- 15. Juli 2003
- Veröffentlichung
- 19. Januar 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Prins, Adrianus Willem
Den Haag, Niederlande
1.547
Patente gesamt
34
Fachgebiete
26
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir
NoneDen Haag