Dielektrisches Substrat enthaltend eine Polyimid Zentralschicht und eine Hochtemperatur-Fluorpolymer-Haftschicht , und diesbezügliches Verfahren
EP1498909
Art B1
14. Oktober 2009
Anmelder: E. I. du Pont de Nemours and Company, E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY, E.I. du Pont de Nemours and Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1498909
- Aktenzeichen
- EP04254225
- Anmeldetag
- 14. Juli 2004
- Veröffentlichung
- 14. Oktober 2009
- Erteilung
- 14. Oktober 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01B3/44H01B3/30B32B27/06B32B27/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- E. I. du Pont de Nemours and Company
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
E.I. du Pont de Nemours and Company - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
DuPont
US-amerikanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Wilmington, Delaware. DuPont entwickelt Spezialchemikalien, Polymere, Elektronikmaterialien sowie Werkstoffe für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Gesundheitswesen.
7.829 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Towler, Philip Dean
London, Großbritannien
1.121
Patente gesamt
27
Fachgebiete
14
Anmelder-Länder
Schwerpunkte