Photoverarbeitung und -Reinigung von Pes- und Psf-Membranen

EP1499414 Art A2 26. Januar 2005

Anmelder: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1499414
Aktenzeichen: EP03716517
Anmeldetag: 12. März 2003
Veröffentlichung: 26. Januar 2005
Rechtsraum: EP
IPC: C08J7/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Rensselaer Polytechnic Institute

Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

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