Verfahren zur Erzeugung einer Grabenstruktur in einem Polymer-Substrat
EP1500316
Art A1
26. Januar 2005
Anmelder: Hitachi Via Mechanics, Ltd., Siemens Aktiengesellschaft 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1500316
- Aktenzeichen
- EP03722247
- Anmeldetag
- 1. April 2003
- Veröffentlichung
- 26. Januar 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05K3/00B23K26/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Hitachi Via Mechanics, Ltd.
Siemens Aktiengesellschaft - Land
- 🇯🇵 Japan
🇩🇪
Siemens
Deutscher Technologiekonzern mit Sitz in München und Berlin. Aktiv in Automatisierungstechnik, Digitalisierung, Energie- und Bahntechnik sowie Industriesoftware für Industrie, Infrastruktur und Mobilität.
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