Verfahren zur Herstellung von einer Diamantschicht
EP1500718
Art A1
26. Januar 2005
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1500718
- Aktenzeichen
- EP04254311
- Anmeldetag
- 17. Juli 2004
- Veröffentlichung
- 26. Januar 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/27
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Company, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Cooper, John
Glasgow, Großbritannien
821
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