Positiv arbeitende Resistzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Resistmustern unter Verwendung dieser Zusammensetzung

EP1505440 Art A3 23. Februar 2005

Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fuji Photo Film Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1505440
Aktenzeichen: EP04017840
Anmeldetag: 28. Juli 2004
Veröffentlichung: 23. Februar 2005
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
Fuji Photo Film Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

12.204 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, ursprünglich als Fuji Photo Film gegründet, heute aktiv in Fotografie, Bildgebung, medizinischer Diagnostik und Spezialchemie.

1.748 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von