Lithographischer Apparat und Verfahren zur Justierung des Apparats
EP1507172
Art A1
16. Februar 2005
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1507172
- Aktenzeichen
- EP03077530
- Anmeldetag
- 12. August 2003
- Veröffentlichung
- 16. Februar 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Prins, Adrianus Willem
Den Haag, Niederlande
1.547
Patente gesamt
34
Fachgebiete
26
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir
NoneDen Haag