Lithographischer Apparat
EP1510868
Art A1
2. März 2005
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1510868
- Aktenzeichen
- EP03077703
- Anmeldetag
- 29. August 2003
- Veröffentlichung
- 2. März 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Raukema, Age
Veldhoven, Niederlande
119
Patente gesamt
19
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Doolaar, Frans
NoneEnschede
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir
NoneDen Haag