Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und damit erzeugte Vorrichtung
EP1510869
Art A3
29. Juli 2009
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1510869
- Aktenzeichen
- EP04077366
- Anmeldetag
- 20. August 2004
- Veröffentlichung
- 29. Juli 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Winckels, Johannes Hubertus F
NoneDen Haag