Lithographischer Apparat und Methode zur Kompensation von thermischer Deformation in einem lithographischen Apparat
EP1513021
Art B1
3. Oktober 2007
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1513021
- Aktenzeichen
- EP04077409
- Anmeldetag
- 26. August 2004
- Veröffentlichung
- 3. Oktober 2007
- Erteilung
- 3. Oktober 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Winckels, Johannes Hubertus F
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