Methode zur Herstellung einer Photomaske unter Einsatz einer Amorphen Kohlenstoffschicht
EP1518150
Art B1
29. März 2006
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC., ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1518150
- Aktenzeichen
- EP03742217
- Anmeldetag
- 25. Juni 2003
- Veröffentlichung
- 29. März 2006
- Erteilung
- 29. März 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
ADVANCED MICRO DEVICES INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
1.708 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Wright, Hugh Ronald
London, Großbritannien
229
Patente gesamt
19
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte