Verfahren zur Herstellung komplexer dreidimensionaler Strukturen im Submikrometerbereich durch kombinierte Lithographie zweier Resists
Anmelder: MOSAID Technologies Incorporated, Consiglio Nazionale Delle Ricerche, INFM Istituto Nazionale per la Fisica della Materia 🇨🇦
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1519227
- Aktenzeichen
- EP04022611
- Anmeldetag
- 22. September 2004
- Veröffentlichung
- 19. Dezember 2012
- Erteilung
- 19. Dezember 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/095G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- MOSAID Technologies Incorporated
Consiglio Nazionale Delle Ricerche
INFM Istituto Nazionale per la Fisica della Materia - Land
- 🇨🇦 Kanada
Mosaid Technologies war ein kanadisches Unternehmen für Halbleiterdesign und Patentlizenzierung im Speicherbereich. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Akustik- und Datenspeichertechnik sowie Software und Nachrichtentechnik, ergänzt durch Elektronik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2019 betreffen unter anderem Netzzugangsdienste und Ringtopologie-Statusanzeigen.
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Der Consiglio Nazionale delle Ricerche (CNR) ist die nationale Forschungsorganisation Italiens mit breiter Forschung in Naturwissenschaften und Technik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Pharma und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.
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